|
|||||
|
|
| 用红外干涉法测量薄膜厚度 | |
| 引用本文： | 吴昌敏 ,阮丽浓.用红外干涉法测量薄膜厚度[J].光学技术,1985(2). |
| 作者姓名： | 吴昌敏 阮丽浓 |
| 摘 要： | <正> 在半导体工艺中各种外延生长的薄膜,以及各种氧化薄膜(如SiO_2),氢化薄膜(如SiH)等厚度的测量,目前一般用金相显微镜法,但是测量前样品必需经过化学腐蚀,是一种有损测量法。我们根据薄膜干涉原理,利用红外光谱仪,很简便的、快速的、无损的测量了各种薄膜厚度。原理及计算公式入射光束I_0由空气射到薄膜表面,反射光束R_1和R_0之间的光程差为(见图1): |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |