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| 用X射线光电子能谱研究Cu/SiO2加氢催化剂 | |
| 引用本文： | 陈骅,李少羽,陈传正,康炳杰.用X射线光电子能谱研究Cu/SiO2加氢催化剂[J].催化学报,1980,1(3):168-174. |
| 作者姓名： | 陈骅 李少羽 陈传正 康炳杰 |
| 作者单位： | 吉林化学工业公司研究院 (陈骅，李少羽，陈传正)，吉林化学工业公司研究院(康炳杰) |
| 摘 要： | 用X射线光电子能谱(XPS)研究了Cu/SiO_2加氢催化剂,包括催化剂制备过程中存在的铜氨络合物—Cu(NH_3)_4R_2的结构、催化剂中活性组分铜和载体硅胶间的相互作用、催化剂制备各阶段铜价态的变化、制备条件和催化活性的关系及催化剂在使用中失活的原因。讨论了催化剂制备过程中的反应机理。 |
| 收稿时间： | 1980-09-25 |
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