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电镀法制备微型金柱腔表面质量控制
引用本文:张云望, 孙敬远, 陈静, 等. 电镀法制备微型金柱腔表面质量控制[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(11).
作者姓名:张云望  孙敬远  陈静  杜凯  万小波  肖江  张伟  张林
作者单位:1.中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621 900;;;2.西南科技大学 材料科学与工程学院, 四川 绵阳 621 01 0;;;3.电子科技大学 微电子与固体电子学院, 成都 61 0054
基金项目:总装技术基础项目,中国工程物理研究院发展基金项目 
摘    要:为了提高金柱腔表面质量,借助扫描电子显微镜及其附带的能量色散谱(EDS),3维视频显微镜(SEM)等现代微观形貌观测手段和成分分析手段,通过单因素实验,分析了金柱腔缺陷形貌和组成以及缺陷产生的原因。探索了电流密度、金属杂质、有机污染物、预镀工艺及基底材质对镀层质量的影响,并对其作用机理进行了探讨。实验结果表明:对麻点和节瘤等缺陷抑制作用明显的工艺参数为,金质量浓度13~22 g/L时,电流密度的最佳范围为2.4~3.2 mA/cm2;金质量浓度5~13 g/L时,最佳范围为2.0~2.6 mA/cm2;大电流冲击时间不超过1 min;镀液无有机杂质污染;芯轴无钝化。

关 键 词:金柱腔   表面质量   缺陷   亚硫酸盐
收稿时间:1900-01-01;

Control of surface quality of sub-millimeter cylindrical gold targets
zhang yunwang, sun jingyuan, chen jing, et al. Control of surface quality of sub-millimeter cylindrical gold targets[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.
Authors:Zhang Yunwang  Sun Jingyuan  Chen Jing  Du Kai  Wan Xiaobo  Xiao Jiang  Zhang Wei  Zhang Lin
Affiliation:1. Research Center of Laser Fusion,CAEP,P.O.Box 919-987,Mianyang 621900,China;;;2. School of Material Science and Engineering,Southwest University of Science and Technology,Mianyang 621010,China;;;3. School of Microelectronics and Solid-State Electronics,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 610054,China
Abstract:The morphology, composition and causes of defects are analyzed to reduce defects on the gold layer prepared by electrochemical deposition from sulfite solution, and to improve the surface quality of sub-millimeter cylindrical gold targets, by means of SEM and EDS. The effects of current density, metallic impurity, organic pollution, pre-deposition parameters and mandrel quality on the quality of the gold plating are discussed, along with their mechanisms. The result indicates that the current density must be controlled strictly. The optimal current density ranges from 2.4 to 3.2 mA/cm2 when the concentration of gold ranges from 13 to 22 g/L, and from 2.0 to 2.6 mA/cm2 when the concentration of gold ranges from 5 to 13 g/L. The parameters of predeposition must be optim
Keywords:surface quality  defect  sulfite
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