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制备工艺对P型ZnO薄膜微观结构和电学特性的影响
引用本文:丁瑞钦,陈毅湛,朱慧群,黎扬钢,丁晓贵,杨柳,黄鑫钿,齐德备,谭军.制备工艺对P型ZnO薄膜微观结构和电学特性的影响[J].人工晶体学报,2008,37(5):1237-1241.
作者姓名:丁瑞钦  陈毅湛  朱慧群  黎扬钢  丁晓贵  杨柳  黄鑫钿  齐德备  谭军
作者单位:五邑大学薄膜与纳米材料研究所,江门,529020;五邑大学数理系,江门,529020;五邑大学信息学院,江门,529020;五邑大学机电系,江门,529020
基金项目:广东省自然科学基金,广东省江门市科技攻关项目
摘    要:本文报道溅射工艺、退火工艺和冷却方式对磷扩散法制备的P型ZnO薄膜的微观结构和电学特性的影响的实验研究.研究结果表明,ZnO薄膜的表面形貌、结晶度、内应力以及电学特性均与制备工艺条件有密切的关系.文章对这些关系的机理做了探讨和分析.

关 键 词:ZnO薄膜  工艺条件  微观结构  电学特性  

Influences of Preparation Techniques on the Microstructure and Electric Characteristics of p-ZnO Thin Films
DING Rui-qin,CHEN Yi-zhan,ZHU Hui-qun,LI Yang-gang,DING Xiao-gui,YANG Liu,HUANG Xin-dian,QI De-bei,TAN Jun.Influences of Preparation Techniques on the Microstructure and Electric Characteristics of p-ZnO Thin Films[J].Journal of Synthetic Crystals,2008,37(5):1237-1241.
Authors:DING Rui-qin  CHEN Yi-zhan  ZHU Hui-qun  LI Yang-gang  DING Xiao-gui  YANG Liu  HUANG Xin-dian  QI De-bei  TAN Jun
Abstract:
Keywords:
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