多晶磷化镓次级发射体──GaP:Cs |
| |
引用本文: | 高鸿楷,陈国夫.多晶磷化镓次级发射体──GaP:Cs[J].物理,1981(8). |
| |
作者姓名: | 高鸿楷 陈国夫 |
| |
作者单位: | 中国科学院西安光学精密机械研究所
(高鸿楷),中国科学院西安光学精密机械研究所(陈国夫) |
| |
摘 要: | 一、引 言在无油超高真空中,用钯激活P型重掺杂的磷化镓(GaP)晶体,形成的负电子亲和势发射体GaP:Cs是一种优良的次级电子发射体它的次级电子发射系数高,而且随一次电子能量的增加而上升.当一次电子能量为600eV时,多晶CaP:Cs的次级电子发射系数已达30,国外报道是20—50.普通合金
|
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|