沉积工艺对YbF_3薄膜可靠性的影响 |
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引用本文: | 冯毅东,于天燕,刘定权.沉积工艺对YbF_3薄膜可靠性的影响[J].光学学报,2018(7). |
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作者姓名: | 冯毅东 于天燕 刘定权 |
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作者单位: | 中国科学院上海技术物理研究所;中国科学院大学 |
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摘 要: | 从沉积方式、薄膜厚度、沉积温度和离子束能量四个方面,研究了沉积工艺对氟化镱(YbF3)薄膜可靠性的影响。研究结果表明,相较于电阻加热蒸发方式,用电子束加热蒸发得到的YbF3薄膜,其致密性更好,水汽吸收更少;薄膜太厚或沉积温度太高会加大YbF3薄膜的应力,使薄膜表面出现裂痕,甚至使薄膜脱落;离子束辅助沉积可以增加YbF3薄膜的附着力,改善薄膜的表面质量;随着离子束能量的增加,薄膜的应力先增大后减小。根据以上研究结果得出YbF3薄膜的最佳沉积工艺,并研制出具有良好光谱性能和高可靠性的宽光谱增透膜。
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