表面结构对面源黑体光谱发射率的影响 |
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引用本文: | 张宇峰,邬玉玲,吴元庆,贾辉,刘文皓,戴景民.表面结构对面源黑体光谱发射率的影响[J].光谱学与光谱分析,2023(2):389-393. |
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作者姓名: | 张宇峰 邬玉玲 吴元庆 贾辉 刘文皓 戴景民 |
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作者单位: | 1. 渤海大学物理科学与技术学院;2. 渤海大学化学与材料工程学院;3. 哈尔滨工业大学仪器科学与工程学院 |
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基金项目: | 国家自然科学基金项目(61575029)资助; |
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摘 要: | 随着红外测温技术的快速发展,红外测温仪在军事及民用领域得到广泛应用,对测量准确度的要求提升到了新的高度。面源黑体辐射源作为非接触测温设备校准的核心装置,近年来受到广泛的关注。发射率是描述辐射源性能的重要指标,目前缺少黑体表面形貌对发射率影响的研究。面源黑体发射率主要由表面凸锥结构和涂覆涂层决定。为设计出高发射率面源黑体,以具有凸锥结构的面源黑体为基础模型,引入间距及涂层结构,建立具有不同表面结构参数、单元间距及涂层厚度的面源黑体模型,设置基底材料为石墨,涂层材料为氮化硅,通过有限元软件得到仿真模型的反射率,利用反射率反演得到其发射率,绘制3~14μm范围内的光谱发射率曲线;研究面源黑体表面的电场分布情况。分析结构单元的宽高比、涂层厚度和结构单元间距等参数对发射率的影响。结构单元高度与发射率成正比、较窄的宽度对发射率有优化作用,发射率随宽高比的减小而增大。涂层结构改变了光谱发射率的下降趋势,在11μm后发射率上升,发射率随厚度增加而增大;单元间距变化与发射率成正比。设置初始面源黑体单元结构高度为10μm、宽度为1μm,在该模型上依次添加2μm涂层及2μm间距结构,进行仿真计算。优化后黑体...
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关 键 词: | 发射率 面源黑体 表面结构 仿真计算 |
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