| 采用双等离子体制备非晶态碳膜的研究 |
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| 引用本文： | 王耀辉,张旭,吴先映,徐元直,张荟星,张孝吉.采用双等离子体制备非晶态碳膜的研究[J].北京师范大学学报(自然科学版),2007,43(2):154-157. |
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| 作者姓名： | 王耀辉 张旭 吴先映 徐元直 张荟星 张孝吉 |
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| 作者单位： | 北京师范大学射线束技术和材料改性教育部重点实验室,北京师范大学低能核物理研究所,北京市辐射中心:100875,北京;北京师范大学射线束技术和材料改性教育部重点实验室,北京师范大学低能核物理研究所,北京市辐射中心:100875,北京;北京师范大学射线束技术和材料改性教育部重点实验室,北京师范大学低能核物理研究所,北京市辐射中心:100875,北京;北京师范大学射线束技术和材料改性教育部重点实验室,北京师范大学低能核物理研究所,北京市辐射中心:100875,北京;北京师范大学射线束技术和材料改性教育部重点实验室,北京师范大学低能核物理研究所,北京市辐射中心:100875,北京;北京师范大学射线束技术和材料改性教育部重点实验室,北京师范大学低能核物理研究所,北京市辐射中心:100875,北京 |
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| 摘 要： | 采用直流金属磁过滤阴极真空弧(FCVA)制造出Ti和乙炔(C2H2)气体的双等离子体在单晶硅(100)上制备非晶态碳膜.重点研究了乙炔气体和过滤线圈电流对非晶态碳膜的结构、形貌和机械性能的影响.研究结果表明,薄膜中主要成分是TiC,并以(111)作为主晶向;随着过滤线圈电流的增大,薄膜的晶粒度越来越小;薄膜表面的粗糙度逐渐减小,变得更加平整;薄膜的应力减小,可以下降到2.5 GPa.薄膜的显微硬度和弹性模量随着C2H2体积流qV(C2H2)的增大而降低,硬度和弹性模量分别可以达到33.9 GPa和237.6 GPa.非晶态碳膜的摩擦因数在0.1～0.25之间,大大低于衬底材料单晶硅片的摩擦因数0.6.随着过滤线圈电流增大,摩擦因数减小.
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| 关 键 词： | 非晶态碳膜 磁过滤阴极真空弧 过滤线圈电流 乙炔的体积流量 结构和性能 |
| 修稿时间： | 2006-11-16 |
INVESTIGATION ON AMORPHOUS CARBON FILMS FABRICATED BY DUAL PLASMA TECHNIQUE |
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| Wang Yaohui,Zhang Xu,Wu Xianying,Xu Yuanzhi,Zhang Huixing,Zhang Xiaoji.INVESTIGATION ON AMORPHOUS CARBON FILMS FABRICATED BY DUAL PLASMA TECHNIQUE[J].Journal of Beijing Normal University(Natural Science),2007,43(2):154-157. |
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| Authors: | Wang Yaohui Zhang Xu Wu Xianying Xu Yuanzhi Zhang Huixing Zhang Xiaoji |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | amorphous carbon films filtered cathodic vacuum arc filter coil current acetylene flow rate structure and properties |
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