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| 溅射功率对氮化锌薄膜特性的影响 | |
| 引用本文： | 杨田林,贾绍辉,刘先平,宋淑梅,李延辉,辛艳青,王雪霞.溅射功率对氮化锌薄膜特性的影响[J].光电子技术,2013,33(3):155. |
| 作者姓名： | 杨田林 贾绍辉 刘先平 宋淑梅 李延辉 辛艳青 王雪霞 |
| 作者单位： | 杨田林:山东大学(威海)空间科学与物理学院, 山东 威海 264209 贾绍辉:威海蓝星玻璃股份有限公司, 山东 威海 264205 刘先平:威海中玻光电有限公司, 山东 威海 264205 宋淑梅:山东大学(威海)空间科学与物理学院, 山东 威海 264209 李延辉:山东大学(威海)空间科学与物理学院, 山东 威海 264209 辛艳青:山东大学(威海)空间科学与物理学院, 山东 威海 264209 王雪霞:山东大学(威海)空间科学与物理学院, 山东 威海 264209 |
| 摘 要： | 在玻璃衬底上通过磁控反应溅射法,利用纯金属Zn靶,在N2-Ar等离子体氛围中制备出氮化锌薄膜。X射线衍射谱表明氮化锌具有(4 0 0)择优取向,反方铁锰矿结构。研究了溅射功率对氮化锌薄膜结构、电学及光学性质的影响。 |
| 关 键 词： | 氮化锌薄膜 磁控反应溅射法 结构特性 电学特性 光学特性 |
| 收稿时间： | 2013/1/14 |
Effect of Sputtering Power on Properties of Zinc Nitride Flims |
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| Abstract: | |
| Keywords: | zinc nitride film magnetron sputtering structural property optical property electrical property |