四氯化硅中痕量杂质的气相色谱测定法 |
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作者姓名: | 李云陔 杨益秀 张杰 王玲 |
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作者单位: | 武汉邮电科学研究院理化室,武汉邮电科学研究院理化室,武汉邮电科学研究院理化室,武汉邮电科学研究院理化室 |
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摘 要: | 在长波长光通信研究中,光导纤维中含氢氧基量对光的衰耗有极为严重的影响。制作光纤的主要原料(四氯化硅)中含氢及含碳氢化合物是氢氧基形成的重要原因之一,这方面的研究已引起分析工作者的重视。实验方法与结果 1.仪器与试剂: (1)仪器:英国Pye Unicam204系列色谱仪。氢的测定:热导池检测器(室温),1米×3毫米5A分子筛(30—60目)柱,柱温室
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