Zur Entwicklung der Oberflächenrauhigkeit während des Sputterns

Zusammenfassung Die zeitliche Entwicklung der Mikrorauhigkeit einer Oberfläche während des Sputterns wurde für verschiedene Größen der Oberflächendiffusionskoeffizienten untersucht. Das Modell berücksichtigt die Bedeckungsgradabhängigkeit der Diffusionsweglänge. Effekte der Korrelation zwischen Atomen beim Sputtern wurden diskutiert. Es wurde gezeigt, daß ab einem Schwellenwert des Oberflächendiffusionskoeffizienten die Tiefenauflösung nahezu konstant wird, statt mit der Quadratwurzel der Sputtertiefen anzuwachsen.

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The development of surface roughness during sputtering

Summary The time-dependence of the micro roughness of a surface during sputtering is investigated for various values of the coefficient of surface diffusionD _s using a model of a coverage dependent diffusion length. Effects of correlation between atoms within the sputtered layer are discussed. It is shown that beginning at a threshold value ofD _s the depth resolution of sputtering becomes a constant instead of being proportional to the square root of the sputter depth.

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Vorgetragen beim 10. Kolloquium über metallkundliche Analyse, Wien, 3.-5. November 1980. -Herrn Prof. Dr. Hanns Malissa zum 60. Geburtstag gewidmet.