| 金属与金属氧化物复合靶制备Bi_4Ti_3O_（12）薄膜 |
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| 引用本文： | 周正国,卢志红,章煜.金属与金属氧化物复合靶制备Bi_4Ti_3O_（12）薄膜[J].武汉大学学报(理学版),1995(3). |
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| 作者姓名： | 周正国 卢志红 章煜 |
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| 作者单位： | 武汉大学物理学系 |
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| 摘 要： | 报道了金属与金属氧化物复合靶的射频溅射法，制备Ｂｉ４Ｔｉ３Ｏ（１２）（ＢＴＯ）铁电陶瓷薄膜的方法，研究ＢＴＯ薄膜的晶体结构，表面形貌以及断面．实验表明采用复合靶能够制备质量好、成分均匀的ＢＴＯ薄膜，其结晶取向与基片材料有关，且退火工艺对膜的质量有影响．
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| 关 键 词： | Bi_4Ti_3O_（12）铁电薄膜，复合靶，结晶取向 |
PREPARATION OF Bi_4Ti_3O_(12) FILMS BY RF SPUTTERING OF METAL AND METAL OXIDE COMPOSE TARGET |
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| Zhou Zhenguo,Lu Zhihong,Zhang Yu.PREPARATION OF Bi_4Ti_3O_(12) FILMS BY RF SPUTTERING OF METAL AND METAL OXIDE COMPOSE TARGET[J].JOurnal of Wuhan University:Natural Science Edition,1995(3). |
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| Authors: | Zhou Zhenguo Lu Zhihong Zhang Yu |
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| Keywords: | BTO ferroelectric film compose target crystallographic orientation |
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