|
|||||
|
|
| 同步辐射光刻曝光均匀性测量 | |
| 作者姓名： | 钱石南 刘泽文 阚娅 刘万波 |
| 作者单位： | 中国科技大学同步辐射加速器(钱石南，刘泽文，阚娅)，中国科技大学同步辐射加速器(刘万波) |
| 摘 要： | 曝光均匀性是同步辐射光刻的一个重要参数,均匀性测量是一个重要课题。本文给出了光强均匀性的两种测量方法。其一是利用双光栅莫尔条纹信号进行在线实时测量。即将指示光栅固定于扩束用的扫描反射镜上,随扫描反射镜以大于25Hz的频 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||
|
||||||||||||||||
|
||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |