| 沉积方式对HfO2薄膜激光损伤阈值的影响 |
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| 引用本文： | 袁宏韬,张贵彦,阚珊珊.沉积方式对HfO2薄膜激光损伤阈值的影响[J].华中科技大学学报(自然科学版),2007,35(Z1). |
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| 作者姓名： | 袁宏韬 张贵彦 阚珊珊 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130033;中国科学院,研究生院,北京,100039
2. 中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130033 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)
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中国科学院基金 |
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| 摘 要： | 分别采用电子束蒸镀、离子束辅助沉积、离子束反应辅助沉积、双离子束溅射技术制备了二氧化铪薄膜,研究了薄膜的光学特性、缺陷、残余应力、弱吸收和抗激光损伤阈值.发现离子束反应辅助沉积的二氧化铪薄膜具有低的缺陷密度和高的损伤阈值;双离子束溅射的二氧化铪薄膜具有高的折射率、高的残余应力和低的损伤阈值.对二氧化铪薄膜的损伤阈值与上述特性之间的依赖关系进行了讨论,发现残余应力是影响薄膜抗激光损伤阈值的一个重要原因.
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| 关 键 词： | 二氧化铪薄膜 激光损伤阈值 物理汽相沉积 |
Influence of the deposition method on the laser induced damage threshold of HfO2 thin films |
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| Yuan Hongtao,Zhang Guiyan,Kan Shanshan.Influence of the deposition method on the laser induced damage threshold of HfO2 thin films[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,2007,35(Z1). |
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| Authors: | Yuan Hongtao Zhang Guiyan Kan Shanshan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | HfO2 thin film laser induced damage threshold physical vapor deposition |
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