| 电子束光刻技术与图形数据处理技术 |
| |
| 引用本文： | 陈宝钦. 电子束光刻技术与图形数据处理技术[J]. 微纳电子技术, 2011, 48(6): 345-352. DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2011.06.001 |
| |
| 作者姓名： | 陈宝钦 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室,北京,100029 |
| |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2006CB0N0604); 国家自然科学基金资助项目(61078060); 基础科研项目(B1020090022) |
| |
| 摘 要： | 介绍了微纳米加工领域的关键工艺技术——电子束光刻技术与图形数据处理技术,包括:电子束直写技术、电子束邻近效应校正技术、光学曝光系统与电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术、电子束曝光工艺技术、微光刻图形数据处理与数据转换技术以及电子束邻近效应校正图形数据处理技术。重点推荐应用于电子束光刻的几种常用抗蚀剂的主要工艺条件与参考值,同时推荐了可以在集成电路版图编辑软件L-Edit中方便调用的应用于绘制含有任意角度单元图形和任意函数曲线的复杂图形编辑模块。
|
| 关 键 词： | 电子束直写(EBDW) 电子束邻近效应校正(EPC) 匹配与混合光刻 图形数据处理 L-Edit图形编辑器 |
Electron Beam Lithography Technology and Pattern Data Process Technology |
| |
| Chen Baoqin. Electron Beam Lithography Technology and Pattern Data Process Technology[J]. Micronanoelectronic Technology, 2011, 48(6): 345-352. DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2011.06.001 |
| |
| Authors: | Chen Baoqin |
| |
| Affiliation: | Chen Baoqin(Micro-Processing & Nano-Technology Laboratory,Institute of Microelectronics(IMECAS),Chinese Academy of Sciences,Beijing 100029,China) |
| |
| Abstract: | The key technologies of the micro/nano-fabrication,i.e.,electron-beam lithography technology and pattern data process technology are presented,including electron-beam direct writing(EBDW)technology and electron-beam proximity effect correction(EPC)technology,mix and match techniques between optical lithography system and electron-beam lithography system,electron-beam lithography process technology,pattern data process and conversion techno-logy in micro-lithography,electron-beam proximity effect correction ... |
| |
| Keywords: | electron beam direct writing(EBDW) electron-beam proximity effect correction(EPC) match and mixed lithography pattern data process L-Edit pattern editor |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
