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纳米TiO2修饰碳糊电极伏安法测量痕量铟
引用本文:李俊华,张复兴,王剑秋,曾荣英,邓培红,彭运林,陈晓东.纳米TiO2修饰碳糊电极伏安法测量痕量铟[J].应用化学,2008,25(6):718-0.
作者姓名:李俊华  张复兴  王剑秋  曾荣英  邓培红  彭运林  陈晓东
作者单位:衡阳师范学院化学与材料科学系
基金项目:衡阳师范学院校科研和教改项目
摘    要:采用溶胶-凝胶法制备了纳米TiO2粉末,成功地将其修饰在碳糊电极上,用阳极溶出伏安法考察了修饰电极测量痕量铟的优化条件及其电化学稳定性.结果表明,在pH=5.4的Hac-NaAc缓冲液中,当In3 在纳米TiO2修饰碳糊电极表面富集时间为200s,电位扫描速率控制为200mV/s时,修饰电极在伏安图上能出现1个灵敏的氧化峰,峰电位为-0.832V,利用该峰可以进行痕量铟的检测;峰电流与In3 浓度在1.0×10-11~1.0×10-9mol/L的范围内成良好线关系,相关系数为0.995,检出限为0.125×10-11mol/L;修饰电极稳定性较好,用于实际水样中钢含量的测定,平均回收率为96.16%,结果令人满意.同时循环伏安和交流阻抗实验表明,铟在修饰电极上电化学氧化为不可逆过程,受电荷传质和扩散过程混合控制;该电极过程的平均活化能为72.36kJ/mol.

关 键 词:碳糊电极  纳米TiO2  阳极溶出法    
文章编号:1000-0518(2008)06-0718-04
收稿时间:2009-06-29
修稿时间:2007年7月15日

Voltammetric Determination of Trace Indium by Using Nano-TiO2 Modified Carbon Paste Electrode
LI Jun-Hua,ZHANG Fu-Xing,WANG Jian-Qiu,ZENG Rong-Ying,DENG Pei-Hong,PENG Yun-Lin,CHEN Xiao-Dong.Voltammetric Determination of Trace Indium by Using Nano-TiO2 Modified Carbon Paste Electrode[J].Chinese Journal of Applied Chemistry,2008,25(6):718-0.
Authors:LI Jun-Hua  ZHANG Fu-Xing  WANG Jian-Qiu  ZENG Rong-Ying  DENG Pei-Hong  PENG Yun-Lin  CHEN Xiao-Dong
Abstract:
Keywords:
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