| 相移掩模的制作 |
| |
| 引用本文： | 冯伯儒,陈宝钦.相移掩模的制作[J].微细加工技术,1997(1):8-16. |
| |
| 作者姓名： | 冯伯儒 陈宝钦 |
| |
| 作者单位： | [1]中国科学院光电技术研究所 [2]中国科学院微电子中心 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金，“微细加工光学技术国家实验室”基金 |
| |
| 摘 要： | 本文阐述相移掩模技术研究中，常用的几种主要相移掩模制作方法，重点介绍了无络ＰＳＭ、Ｌｅｖｅｎｓｏｎ交替型ＰＳＭ、边级ＰＳＭ、亚分辨辅助ＰＳＭ以及激光直写制作ＰＳＭ的方法。
|
| 关 键 词： | 光学曝光 相移掩模 掩模制造 |
PHASE-SHIFTING MASK FABRICATION |
| |
| Feng Boru.PHASE-SHIFTING MASK FABRICATION[J].Microfabrication Technology,1997(1):8-16. |
| |
| Authors: | Feng Boru |
| |
| Abstract: | In the paper described are some phase-shifting mask(PSM)fabrication pro-cesses and techniques commonly used in research of PSM technology,especiallychromeless PSM,Levenson PSM, rim PSM and sub-resolution auxiliary PSM.Finally,a PSM fabrication technique with laser direct-writing method is given. |
| |
| Keywords: | optical microlithography phase-shifting mask mask process |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
