| EBES—40A型电子束曝光机的软件开发 |
| |
| 引用本文： | 梁俊仪,薛虹.EBES—40A型电子束曝光机的软件开发[J].微细加工技术,1997(2):6-13. |
| |
| 作者姓名： | 梁俊仪 薛虹 |
| |
| 作者单位： | 中科院电工所!北京，100080，中科院电工所!北京，100080，中科院电工所!北京，100080，中科院电工所!北京，100080 |
| |
| 摘 要： | 本文简要会介绍了一种圆形电子束曝光机应用软件的结构，工作原理及工作过程；并且根据作者长期应用这套软件的具体情况，对使用该软件过程是同到的一些具体问题和解决方法作了详细的说明。此外，对自行编制的软件也作了介绍。
|
| 关 键 词： | 电子束曝光机 系统软件 软件开发 |
SOFTWARE DEVELOPMENT FOR EBES-40A ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM |
| |
| Liang Jun Yi, Xie Hong, Liu Hao, Zhang Fuan.SOFTWARE DEVELOPMENT FOR EBES-40A ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM[J].Microfabrication Technology,1997(2):6-13. |
| |
| Authors: | Liang Jun Yi Xie Hong Liu Hao Zhang Fuan |
| |
| Abstract: | The composition,principle and working procedure of the application software of EBES-40A electron beam Lithography system are introduced. Some problems and their solutions in using the software are described in detail. Several softwares developed by us are also introduced. |
| |
| Keywords: | electron beam lithography system system software data conversion |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
