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用直流PCVD增大金刚石薄膜生长的成核密度

引用本文：	楚山.用直流PCVD增大金刚石薄膜生长的成核密度[J].等离子体应用技术快报,1994(11):7-8.

作者姓名：	楚山

摘要：
关键词：	等离子体化学气相淀积薄膜金刚石成核密度
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