| 缩小投影电子束曝光系统的成像反差 |
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| 引用本文： | 彭开武,顾文琪,张福安,吴桂君.缩小投影电子束曝光系统的成像反差[J].微细加工技术,2002(3):17-22. |
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| 作者姓名： | 彭开武 顾文琪 张福安 吴桂君 |
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| 作者单位： | 中科院电工所,北京,100080 |
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| 摘 要： | 结合原理说明了理想条件下的照明束与角度限制光阑可获得最佳成像反差，详细讨论了照明束与角度限制光阑处于非理想情况时对成像反差的影响及理想条件的调试方法。
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| 关 键 词： | 成像反差 缩小投影电子束曝光 照明束 角度限制光阑 |
| 文章编号： | 1003-8213(2002)03-0017-06 |
| 修稿时间： | 2002年4月8日 |
Image Contrast of Projection Electron-beam Lithography with Demagnification Imaging(PELDI) |
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| PENG Kai wu,GU Wen qi,ZHANG Fu an,WU Gui jun.Image Contrast of Projection Electron-beam Lithography with Demagnification Imaging(PELDI)[J].Microfabrication Technology,2002(3):17-22. |
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| Authors: | PENG Kai wu GU Wen qi ZHANG Fu an WU Gui jun |
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| Abstract: | The optimal image contrast which can be got when the illumination beam and the angular limitation aperture are in ideal conditions is presented with their woking principles.In the nonideal conditions their influence on the image contrast and the debug method for the ideal conditions are discussed in detail. |
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| Keywords: | PELDI illumination beam angular limitation aperture contrast |
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