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基于Marangoni界面效应的数控化学抛光去除函数的研究
引用本文:侯晶,许乔,雷向阳,周礼书,张清华,王健. 基于Marangoni界面效应的数控化学抛光去除函数的研究[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(4): 555-558
作者姓名:侯晶  许乔  雷向阳  周礼书  张清华  王健
作者单位:成都精密光学工程研究中心,四川,成都,610041;成都精密光学工程研究中心,四川,成都,610041;成都精密光学工程研究中心,四川,成都,610041;成都精密光学工程研究中心,四川,成都,610041;成都精密光学工程研究中心,四川,成都,610041;成都精密光学工程研究中心,四川,成都,610041
基金项目:中国工程物理研究院激光聚变研究中心创新基金资助课题
摘    要: 利用基于Marangoni界面效应对化学抛光去除函数的理论及实验进行研究,提出采用湿法化学抛光(刻蚀)方法为大口径高精度光学元件的加工提供新的解决途径。介绍了Marangoni界面效应及其验证实验,运用WYKO轮廓仪对熔石英基片局域刻蚀前后的粗糙度进行检测,结果表明,粗糙度基本无变化,刻蚀前后粗糙度分别为0.72 nm和0.71 nm。基于Preston假设, 建立了数控化学抛光理论模型,运用WYKO干涉仪观察实验现象可知,化学抛光刻蚀曲线基本上成平底陡峭的去除函数曲线,小磨头抛光是倒置的仿高斯函数曲线。

关 键 词:Marangoni界面效应  数控化学抛光  去除函数  化学刻蚀
文章编号:1001-4322(2005)04-0555-04
收稿时间:2004-10-15
修稿时间:2004-10-15

Removal function of computerized numerical controlled chemical polishing based on the Marangoni interface effect
HOU Jing,XU Qiao,LEI Xiang-yang,ZHOU Li-shu,ZHANG Qing-hua,WANG Jian. Removal function of computerized numerical controlled chemical polishing based on the Marangoni interface effect[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17(4): 555-558
Authors:HOU Jing  XU Qiao  LEI Xiang-yang  ZHOU Li-shu  ZHANG Qing-hua  WANG Jian
Affiliation:Research Center of Fine Optical Engineering, P.O.Box 450, Chengdu 610041, China
Abstract:Based on the Marangoni interface effect,the theory and test of the removal function of numerically controlled chemical polishing are studied.Wet etching of optics surface is adopted in large optical components manufacture.Before the optical components test, the roughness of the optical components. measured by WKYO apparatus, is 0.72 nm; after the test, the roughness is 0.71 nm. Based on the Preston supposition, the theory and the removal function of numerically controlled chemical polishing are setup. The removal function curve of small tool polishing is Gauss-like.
Keywords:Marangoni interface effect  Numerically controlled chemical polishing  The Removal function  Chemical polishing
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