| TDX-200TEM物镜磁路缺陷对物镜性能影响研究 |
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| 引用本文： | 刘雪萍,董全林,张秀艳.TDX-200TEM物镜磁路缺陷对物镜性能影响研究[J].光学技术,2015(1):81-84. |
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| 作者姓名： | 刘雪萍 董全林 张秀艳 |
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| 作者单位： | 微纳测控与低维物理教育部重点实验室;国家"惯性技术"重点实验室;北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院 |
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| 摘 要： | 基于TDX-200透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM),利用ANSYS软件仿真物镜磁路存在空隙、凹陷、凸起缺陷时物镜轴上的磁场分布,在此基础上利用MEBS软件仿真物镜激励、球差系数等性能参数,分析了各磁路缺陷对物镜分辨率的影响。结果表明,在相同加速电压下,相对于空隙缺陷、凸起缺陷对物镜分辨率的影响,凹陷缺陷对物镜分辨率的影响最大。在200k V加速电压下,当物镜存在直径为0.5mm的半圆形凹陷环缺陷时,实际分辨率相对于理想分辨率的变化量可达到9.68%。
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| 关 键 词： | 物理光学 透射电子显微镜 物镜 磁路缺陷 磁场分布 |
Study on the influence of magnetic circuit defect on objective lens performance |
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| Institution: | LIU Xueping;DONG Quanlin;ZHUANG Xiuyan;Key Laboratory of Micro-nano Measurement-Manipulation and Physics;Science and Technology on Inertial Laboratory;School of Instrumentation Science and Opto-electronics Engineering,Beihang University; |
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