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ZnTeCu薄膜的制备及其性能
引用本文:郑家贵,张静全,蔡伟,黎兵,蔡亚平,冯良桓.ZnTeCu薄膜的制备及其性能[J].半导体学报,2001,22(2):171-176.
作者姓名:郑家贵  张静全  蔡伟  黎兵  蔡亚平  冯良桓
作者单位:四川大学材料科学系,成都610064
基金项目:国家自然科学基金资助项目(No.5672036).
摘    要:用共蒸发法在室温下沉积了 Zn Te∶ Cu多晶薄膜 .刚沉积的不掺 Cu的薄膜呈立方相 ,适度掺 Cu时为立方相和六方相的混合相 .随着 Cu含量的增加 ,六方相增加 ,光能隙减小 .根据暗电导温度关系 ,结合 XRD和 DSC的结果 ,认为在 110℃、170℃开始出现类 Cu Te、类 Cu2 Te相以及 Cu0、Cu+离解的结果导致电导温度关系异常 ,应用这种薄膜作为背接触层获得了转换效率为 11.6 % ,面积为 0 .5 2 cm2 的 Cd S/Cd Te/Zn Te∶ Cu太阳电池

关 键 词:ZnTe∶Cu薄膜    制备    测试
文章编号:0253-4177(2001)02-0171-06
修稿时间:2000年2月12日

Fabrication of ZnTe
ZHENG Jia-gui.Fabrication of ZnTe[J].Chinese Journal of Semiconductors,2001,22(2):171-176.
Authors:ZHENG Jia-gui
Abstract:
Keywords:
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