| XPS分析部分水解聚丙烯酰胺在石英砂上的静态吸附行为 |
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| 引用本文： | 杨继萍 黄鹏程. XPS分析部分水解聚丙烯酰胺在石英砂上的静态吸附行为[J]. 高等学校化学学报, 1997, 18(4): 647-651 |
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| 作者姓名： | 杨继萍 黄鹏程 |
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| 作者单位： | 北京理工大学化学化工与材料学院!北京，100081，北京理工大学化学化工与材料学院!北京，100081，北京航空航天大学材料科学与工程系!北京，100083 |
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| 摘 要： | 研究了部分水解聚丙烯烯酰胺（ＨＰＡＭ）在石英砂表面的吸附量与ＨＰＡＭ浓度的关系，结果表明，ＨＰＡＭ在石英的吸附基本符合Ｌａｎｇｍｕｉｒ吸附模式，并且是不完全可逆吸附，ＸＰＳ分析表明，Ｎ／Ｓｉ原子比基本反映了ＨＰＡＭ在石英砂表面上的吸附量，Ｎ１ｓ结合能的升高反映了ＨＰＡＭ和石英砂表面间的氢键作用。
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| 关 键 词： | 水解 聚丙烯酰胺 石英砂 静态吸附 XPS 吸附 |
XPS Study of Static Adsorption of HPAM on SiO_2 |
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| YANG Ji-Ping, LI Hui-Sheng. XPS Study of Static Adsorption of HPAM on SiO_2[J]. Chemical Research In Chinese Universities, 1997, 18(4): 647-651 |
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| Authors: | YANG Ji-Ping LI Hui-Sheng |
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| Abstract: | The relationship between the concentration of partially hydrolyzed polyacrylamide(HPAM) and the quantity of HPAM adsorbed on the SiO2 surface was studied. The X-rayphotoelectron spectroscopy(XPS) was used to investigate the interaction between the poly-mer molecules and the adsorbent surface. The experimental results show that the adsorptionof HPAM on SiO2 surface is consistent with Langmuir model. XPS analysis of the samplessurface shows that the N/Si atomic concentration ratio reflects the quantity of HPAM ad-sorbed on the SiO2 surface, and the increase of N15, binding energy is related to the formationof the hydrogen-bonding between the HPAM molecules and the SiO2 surface. |
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| Keywords: | HPAM XPS SiO_2 Static adsorption |
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