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| 电感耦合等离子体质谱法测定高纯镓中痕量杂质 | |
| 引用本文： | 岳晓云,蔡绍勤,邵荣珍,刘玉龙,鲁亦强.电感耦合等离子体质谱法测定高纯镓中痕量杂质[J].分析化学,2001,29(11):1307-1310. |
| 作者姓名： | 岳晓云 蔡绍勤 邵荣珍 刘玉龙 鲁亦强 |
| 作者单位： | 1. 北京有色金属研究总院, 2. 北京科技大学 |
| 摘 要： | 采用电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）测定高纯镓中痕量杂质元素，以Rh作为内标补偿校正镓基体的抑制效应，采用异丙醚萃取分离镓与ICP-MS技术联用，拓展分析方法应用范围，可满足99.9999%-99.99999%超高纯镓分析方法要求。方法检出限为0.006-0.062μg/L；加标回收率为86.8%-121.4%之间；RSD为1.1%-8.6%。 |
| 关 键 词： | 电感耦合等离子体质谱 高纯镓 杂质 基体效应 内标 溶剂萃取 痕量分析 半导体材料 |
Determination of Trace Impurities in High Purity Gallium by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry |
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| Abstract: | |
| Keywords: | Inductively coupled plasma mass spectrometry high purity gallium trace impurities matrix effect internal standard solvent extraction |
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