| 工作气压对磁控溅射ITO薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 任丙彦,刘晓平,李彦林,王敏花,羊建坤,许颖. 工作气压对磁控溅射ITO薄膜性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2007, 36(4): 798-801 |
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| 作者姓名： | 任丙彦 刘晓平 李彦林 王敏花 羊建坤 许颖 |
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| 作者单位： | 河北工业大学信息功能材料研究所,天津,300310;河北工业大学信息功能材料研究所,天津,300310;北京太阳能研究所,北京,100083;北京太阳能研究所,北京,100083 |
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| 摘 要： | 工作气压在ITO薄膜的制备过程中是一个重要的工艺参数,直接决定着薄膜的性能.本文利用射频磁控溅射方法,采用氧化铟锡陶瓷靶材,在衬底温度为175℃,工作气压范围为0.45～1.0 Pa条件下,制备了氧化铟锡透明导电薄膜.研究了工作气压对其微观结构、表面形貌和光电特性的影响.在衬底温度为175℃、纯氩气中制备的氧化铟锡薄膜电阻率为3.04 ×10-4 Ω·cm、可见光波段(400～800 nm)透过率为91.9;,适合用作异质结太阳电池的前电极和减反射膜.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 ITO薄膜 溅射气压 低温 |
| 文章编号： | 1000-985X（2007）04-0798-04 |
| 修稿时间： | 2007-02-08 |
Effects of Sputtering Pressure on the Properties of Indium Tin Oxide |
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| REN Bing-yan,LIU Xiao-ping,LI Yan-lin,WANG Min-hua,YANG Jian-kun,XU Ying. Effects of Sputtering Pressure on the Properties of Indium Tin Oxide[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2007, 36(4): 798-801 |
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| Authors: | REN Bing-yan LIU Xiao-ping LI Yan-lin WANG Min-hua YANG Jian-kun XU Ying |
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| Affiliation: | 1. School of Material Science and Engineering, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China; 2. Beijing Solar Energy Research Institute, Beijing 100083, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering ITO thin films sputtering pressure low temperature |
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