| 退火温度对低温生长MgxZn1-xO薄膜光学性质的影响 |
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| 引用本文： | 张锡健,马洪磊,王卿璞,马瑾,宗福建,肖洪地,计峰. 退火温度对低温生长MgxZn1-xO薄膜光学性质的影响[J]. 物理学报, 2006, 55(1) |
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| 作者姓名： | 张锡健 马洪磊 王卿璞 马瑾 宗福建 肖洪地 计峰 |
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| 基金项目： | 高等学校博士学科点专项科研项目 |
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| 摘 要： | 用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备出MgxZn1-xO(x=0.16)薄膜,用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)和透射谱研究了退火温度对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,并且具有沿c轴的择优取向;随着退火温度的升高,(002)XRD峰强度、平均晶粒尺寸和紫外PL峰强度增大,(002)XRD峰半高宽(FWHM)减小.结果证明,用射频磁控溅射法通过适当控制退火温度可得到高质量MgxZn1-xO薄膜.
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| 关 键 词： | MgxZn1-xO薄膜 射频磁控溅射 退火 |
Effect of annealing on optical properties of MgxZn1- xO thin films deposited at low temperature |
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| Zhang Xi-Jian,Ma Hong-Lei,Wang Qing-Pu,Ma Jin,Zong Fu-Jian,Xiao Hong-Di,Ji Feng. Effect of annealing on optical properties of MgxZn1- xO thin films deposited at low temperature[J]. Acta Physica Sinica, 2006, 55(1) |
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| Authors: | Zhang Xi-Jian Ma Hong-Lei Wang Qing-Pu Ma Jin Zong Fu-Jian Xiao Hong-Di Ji Feng |
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