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高纯二氧化硅的制备研究进展
引用本文:宋曦婷,刘连利.高纯二氧化硅的制备研究进展[J].渤海大学学报(自然科学版),2010,31(2):129-132.
作者姓名:宋曦婷  刘连利
作者单位:渤海大学,科技实验中心,辽宁,锦州,121013
基金项目:辽宁省科技厅重点项目 
摘    要:高纯二氧化硅通常是指二氧化硅中含有的金属杂质含量特别低,一般在10ppm乃至1ppm以下,属高性能无机硅材料,已广泛应用于许多高新技术领域,日益受到关注。本文对高纯二氧化硅的制备技术进行了全面介绍,对各种制法的优缺点进行了评述。

关 键 词:高纯二氧化硅  制备

Research progress for preparation of high-purity silicon dioxide
SONG Xi-ting,LIU Lian-li.Research progress for preparation of high-purity silicon dioxide[J].Journal of Bohai University:Natural Science Edition,2010,31(2):129-132.
Authors:SONG Xi-ting  LIU Lian-li
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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