首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

面阵硅场发射阵列的离子束刻蚀
引用本文:张新宇,赵兴荣,易新建,张智.面阵硅场发射阵列的离子束刻蚀[J].华中科技大学学报(自然科学版),1998(5).
作者姓名:张新宇  赵兴荣  易新建  张智
作者单位:华中理工大学光电子工程系
基金项目:国家高技术研究发展计划资助项目
摘    要:利用光刻热熔法及氩离子束刻蚀技术制作128×128元面阵硅场发射器件,采用扫描电子显微镜(SEM)和表面探针等测试手段分析所制成的面阵硅微尖阵列和硅微台(微环尖)阵列的表面微结构形貌特点.所制成的面阵硅微尖和硅微台(微环尖)器件的图形整齐均匀,达到了预定的各项指标的要求.实验表明,所采用的器件制作方法有较大的实用价值.

关 键 词:场发射  硅微尖阵列  硅微台阵列

Ar Ion Beam Etching for Silicon Field Emission Arrays
Zhang Xinyu Doctoral Candidate, Dept. of Optoelectronic Eng.,HUST,Wuhan ,China. Zhao Xingrong Yi Xinjian Zhang Zhi.Ar Ion Beam Etching for Silicon Field Emission Arrays[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,1998(5).
Authors:Zhang Xinyu Doctoral Candidate  Dept of Optoelectronic Eng  HUST  Wuhan  China Zhao Xingrong Yi Xinjian Zhang Zhi
Institution:Zhang Xinyu Doctoral Candidate, Dept. of Optoelectronic Eng.,HUST,Wuhan 430074,China. Zhao Xingrong Yi Xinjian Zhang Zhi
Abstract:
Keywords:field emission  Si microtip arrays  Si microplatform arrays
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号