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| 基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法 | |
| 引用本文： | 严伟,李艳丽,陈铭勇,王建.基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法[J].光学学报,2011(8):20-24. |
| 作者姓名： | 严伟 李艳丽 陈铭勇 王建 |
| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室; |
| 摘 要： | 针对投影光刻机短波长、大数值孔径、短焦深的特点,讨论了一种基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法.该方法采用三角测量的基本原理,利用双光栅光闸叠栅条纹的光强调制机理,并结合像横向剪切器和光弹调制的光学特性,建立了单个光栅周期内焦面位移量和输出光能量线性关系.其具有非接触、强实时性和高稳健性的特点,经理论分析和模拟测试,达到纳米... |
| 关 键 词： | 光学测量 焦面检测 叠栅条纹 光弹调制 横向剪切分束器 |
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