| 管道热丝CVD金刚石膜反应器温度场的数值计算 |
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| 引用本文： | 汪爱英,纪爱玲,邹友生,孙超,黄荣芳,闻立时. 管道热丝CVD金刚石膜反应器温度场的数值计算[J]. 人工晶体学报, 2002, 31(6): 576-582 |
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| 作者姓名： | 汪爱英 纪爱玲 邹友生 孙超 黄荣芳 闻立时 |
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| 作者单位： | 中国科学院金属研究所,沈阳,110016 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金85重大攻关项目(No.59292800)和辽宁省科委资助项目 |
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| 摘 要： | 在热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石膜的传统管道反应器中,对不同传热机制下管道壁温度场的空间分布进行了模拟计算.结果表明,管道壁温度场在纯热辐射机制作用下的分布很不均匀;在绝热和恒温的边界条件下考虑热传导作用后,管道壁温度分布的均匀性大大提高;进一步的热对流作用仅提高管道壁的总体温度,并不显著改变管道壁温度场的均匀性分布.
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| 关 键 词： | 热丝化学气相沉积 金刚石膜 温度场 模拟计算, |
| 文章编号： | 1000-985X(2002)06-576-07 |
| 修稿时间： | 2002-06-10 |
Numerical Study on the Temperature Field of Reactor Wall for HFCVD Diamond Films |
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