| 微晶硅薄膜在粗糙表面的大面积均匀生长机制在 |
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| 引用本文： | 赵文锋,陈俊芳,王燕,孟然,赵益冉,邵士运,李继宇,张宇.微晶硅薄膜在粗糙表面的大面积均匀生长机制在[J].化学物理学报,2010,23(4):447-450. |
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| 作者姓名： | 赵文锋 陈俊芳 王燕 孟然 赵益冉 邵士运 李继宇 张宇 |
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| 作者单位： | 华南师范大学物理与电信工程学院，量子信息技术重点实验室，广州510006；华南农业大学工程学院，广州510642;华南师范大学物理与电信工程学院，量子信息技术重点实验室，广州510006;华南师范大学物理与电信工程学院，量子信息技术重点实验室，广州510006;华南师范大学物理与电信工程学院，量子信息技术重点实验室，广州510006;华南师范大学物理与电信工程学院，量子信息技术重点实验室，广州510006;华南师范大学物理与电信工程学院，量子信息技术重点实验室，广州510006;华南农业大学工程学院，广州510642;华南农业大学工程学院，广州510642 |
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| 摘 要： | 用氩气稀释硅烷作为反应气体，利用感应耦合等离子体在廉价衬底上大面积均匀沉积微晶硅薄膜．X射线衍射和拉曼分析表明衬底能显著地影响晶向，且微晶硅薄膜由小晶粒组成．台阶仪测试表明，微晶硅薄膜具有大范围均匀的特点．探针分析表明衬底附近区域的离子密度及电子温度分布均匀．基于以上结果可知：粗糙表面在晶体结构形成具有重要的作用，电感耦合等离子体反应器可以大面积均匀沉积薄膜．此外，氩气能影响反应过程并提高微晶硅薄膜特性．
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| 关 键 词： | 微晶硅薄膜，电感耦合等离子体，粗糙表面 |
| 收稿时间： | 1/7/2010 12:00:00 AM |
Large Scale Homogeneous Growth Mechanics of Microcrystalline Silicon Films on Rough Surface |
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| Wen-feng Zhao,Jun-fang Chen,Yan Wang,Ran Meng,Yi-ran Zhao,Shi-yun Shao,Ji-yun Li and Yun Zhang.Large Scale Homogeneous Growth Mechanics of Microcrystalline Silicon Films on Rough Surface[J].Chinese Journal of Chemical Physics,2010,23(4):447-450. |
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| Authors: | Wen-feng Zhao Jun-fang Chen Yan Wang Ran Meng Yi-ran Zhao Shi-yun Shao Ji-yun Li and Yun Zhang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Microcrystalline silicon film Inductively coupled plasma Rough surface |
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