KDP晶体Sol—Gel膜技术

Sol—Gel法制备的化学膜具有较高的抗激光损伤阈值、很好的增透效果以及大面积成膜均匀性，因此可提高高功率激光器的输出能量，以满足ICF相关实验需要。尤其是针对KDP晶体吸湿性强、对温度变化敏感、易脆裂等苛刻性质，通过化学涂膜的途径解决晶体的防潮和增透问题具有极大的优越性。KDP晶体上涂制常规防潮膜和减反膜的研究已经进行了数年，其研究成果已在“神光”-Ⅱ上得到应用。但是尚有不少技术指标需要改善，包括膜层损伤阈值的提高、膜层的疏水性能、耐擦刮性能、耐环境污染性能以及大尺寸的光学元件的涂膜工程化（包括设备、工艺、涂膜质量的稳定性等）等方面，都需要进一步的研究，以满足“神光”-Ⅲ的工程需求。