| 热处理温度对ZnO：Al薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 杨春秀,闫金良,孙学卿,李科伟,李俊.热处理温度对ZnO：Al薄膜性能的影响[J].光子学报,2008,37(12). |
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| 作者姓名： | 杨春秀 闫金良 孙学卿 李科伟 李俊 |
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| 作者单位： | 鲁东大学,物理与电子工程学院,山东,烟台,264025 |
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| 摘 要： | 利用溶胶-凝胶技术在玻璃衬底上制备了ZnO:Al薄膜,表征了薄膜的结构、光透过和光致发光特性,探讨了热处理温度对薄膜晶体结构和光学性质的影响.结果表明,在热分解温度400 ℃和退火温度600 ℃时,ZnO:Al薄膜的C轴择优取向明显,透过率较高.在热处理温度400 ℃情况下,激发波长340 nm的光致发光谱中有三个发光中心,紫外发光强度随退火温度的升高先升高后下降,500 ℃时发光强度最强.其它两个发光峰的强度随退火温度的升高而降低甚至消失.激发波长不同,ZnO:Al薄膜的发光中心和强度均发生变化.
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| 关 键 词： | 溶胶-凝胶法 ZnO:Al薄膜 热处理 晶体结构 光致发光 |
Influence of Heat Treatment on Characteristics of ZnO:Al Thin Films |
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| YANG Chun-xiu,YAN Jin-liang,SUN Xue-qing,LI Ke-wei,LI Jun.Influence of Heat Treatment on Characteristics of ZnO:Al Thin Films[J].Acta Photonica Sinica,2008,37(12). |
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| Authors: | YANG Chun-xiu YAN Jin-liang SUN Xue-qing LI Ke-wei LI Jun |
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