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非均匀等离子体中1/4临界密度附近受激散射的非线性演化
引用本文:吴钟书,赵耀,翁苏明,陈民,盛政明.非均匀等离子体中1/4临界密度附近受激散射的非线性演化[J].物理学报,2019(19).
作者姓名:吴钟书  赵耀  翁苏明  陈民  盛政明
作者单位:上海交通大学物理与天文学院激光等离子体教育部重点实验室;中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室;李政道研究所
摘    要:本文采用粒子模拟方法,针对长脉冲激光在非均匀等离子体中的传输过程,特别是在1/4临界密度附近,等离子体中受激散射的非线性演化现象,进行了细致的模拟研究.研究结果表明:在1/4临界面附近所产生的受激拉曼散射不稳定性,其散射光在等离子体中被捕获,并在该区域形成电磁孤子.电磁孤子的振幅随着不稳定性的发展而提高,并由此而产生一个有质动力场驱动周围的电子运动,离子随后被电荷分离场加速,最终形成准中性的密度坑.在单个密度坑形成后,由于该密度坑周围等离子体密度和温度产生了变化,使得等离子体中逐渐形成更多的密度坑.这些密度坑将等离子体分割成不连续的密度分布,而这种密度分布最终明显地抑制了受激拉曼散射和受激布里渊散射不稳定性的发展.

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