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| 射频溅射生长的氮化硅膜的椭偏光谱测量 | |
| 作者姓名： | 余玉贞 张世宏 黄炳忠 |
| 作者单位： | 中山大学物理系(余玉贞，张世宏)，中山大学物理系(黄炳忠) |
| 摘 要： | 本文提出一种处理数据的方法,以解决利用两个椭偏测量值ψ、△,求解两个以上未知参量,得到了在本实验条件下生长的氮化硅膜的实在折射率及其色散,以及氮化硅膜的生长率.实验结果还表明,氮化硅与硅衬底间存在一界面层, |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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