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柔性膜基结构的应力光学系数测量研究
作者姓名:邢文辉  武智朋  孙鑫  王志勇
作者单位:1. 天津大学机械工程学院力学系;2. 中国科学院光电技术研究所
基金项目:国家自然科学基金项目(12041201);
摘    要:柔性膜基结构具有轻质化、可折叠、便携等优点,在微机电和柔性电子等前沿领域有广阔的应用前景。相比于传统的刚性结构,柔性膜基结构在制备和随后服役的过程中更容易产生内应力,造成元器件稳定的降低,因此膜基结构的应力测量具有非常重要的意义。本文基于光弹性原理,设计搭建了圆偏振光场下的光弹性实验光路,分别测得了基底和膜基结构在不同应力下的光弹性图像。根据光弹性图像随应力的周期性亮暗变化规律,对图像亮度与所受应力大小进行三角函数拟合,通过拟合结果和所建立的图像亮度与主应力模型对聚酰亚胺基底和金属铜薄膜的应力光学系数进行计算,结果证明了金属铜薄膜具有应力光学效应以及通过透射的方法测量纳米级金属薄膜应力光学系数的可行性。

关 键 词:膜基结构  光弹性  应力光学系数  内应力
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