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1.531μm附近NH_3分子痕量探测
引用本文:贾慧,郭晓勇,蔡廷栋,赵卫雄,汪磊,谈图,张为俊,高晓明.1.531μm附近NH_3分子痕量探测[J].光谱学与光谱分析,2009,29(12).
作者姓名:贾慧  郭晓勇  蔡廷栋  赵卫雄  汪磊  谈图  张为俊  高晓明
作者单位:1. 中国科学院安徽光学精密机械研究所环境光学研究室,安徽合肥,230031;中国科学院大气成分与光学重点实验室,安徽合肥,230031
2. 中国科学院空间科学与应用研究中心空间信息与仿真技术研究室,北京,100190
基金项目:国家高技术研究发展计划项目 
摘    要:基于离轴积分腔输出光谱技术(OA-ICOS)的小型集成系统以工作在近红外1.531 μm附近的分布反馈式(DFB)二极管激光器为光源,测量了窒温下各种低浓度NH_3与空气的混合气.首先利用标准浓度的CO_2气体校准得到腔镜的有效反射率R为0.996 9,在此条件下,基长35.8 cm的光学谐振腔作为吸收池可得到115.46 m的吸收光程.NH_3在6 528.764cm~(-1)位置的强吸收谱线被选择用于痕最探测,在100 torr的总压力下,实验测得NH_3的探测极限为2.66 ppmv(S/N~3),之后结合波长调制技术,在信号检测通路中采用锁丰兀放大技术来实现调制信号的二次谐波检测,这可以更好地抑制背景噪声而提高探测信号的信噪比,最终将NH_3的探测极限进一步提高到0.274 ppmv(S/N~3).

关 键 词:离轴积分腔输出光谱技术  波长调制  二次谐波  探测极限
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