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| 离子注入硅Nd-YAG连续激光退火 | |
| 引用本文： | 邹世昌 ,B.I.Deutch ,柳襄怀 ,陈朝荣 ,林成鲁 ,吴恒显 ,陆世桢 ,沈振东.离子注入硅Nd-YAG连续激光退火[J].电子学报,1979(4). |
| 作者姓名： | 邹世昌 B.I.Deutch 柳襄怀 陈朝荣 林成鲁 吴恒显 陆世桢 沈振东 |
| 摘 要： | 本文报导用扫描Nd-YAG连续激光对<100>硅中注铋的损伤层进行的退火研究。测量表明:退火能使离子注入造成的晶格损伤很好恢复,90％以上的铋原子处于替代位置,杂质浓度的分布保持不变。文中对退火参数的选择、均匀性,以及表面温度升高、外延再生长层厚度等问题进行了讨论。文末还将实验结果与熔化型脉冲激光退火进行了比较。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |