射频磁控反射溅射生长AlN薄膜

用射频磁控反射溅方法，在高纯Ｎ２，Ａｒ的气氛中，以高纯Ａｌ为靶材，成功地制备了ＡｌＮ薄膜，研究了不同气体组分，不同衬底温度对薄膜结晶性的影响。