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| 射频磁控反射溅射生长AlN薄膜 | |
| 引用本文： | 赵彦立,钟国柱.射频磁控反射溅射生长AlN薄膜[J].发光学报,1999,20(2):165-169. |
| 作者姓名： | 赵彦立 钟国柱 |
| 摘 要： | 用射频磁控反射溅方法，在高纯Ｎ２，Ａｒ的气氛中，以高纯Ａｌ为靶材，成功地制备了ＡｌＮ薄膜，研究了不同气体组分，不同衬底温度对薄膜结晶性的影响。 |
| 关 键 词： | 薄膜 AlN 阴极射线发光 氮化物 磁控溅射 |
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