在发射式电子光学系统中,初速度按麥克斯韋分布时像的品质

前两篇论文是基於Арцимович-Recknagel公式,讨论了轴对称发射式系统中光电子初速度分布对於电子像品质的影响。本文在同样的基础上,但假定电子的初速度是按麦克斯韦分布,讨论了对应於点源和简单几何图形的面源所形成的电子像的强度分布,以及它们的分辨距离。不仅热电子发射可以用麦克斯韦分布描写,而且二次发射及光电发射也可以近似地用麦克斯韦分布描写。因此,本文的结果也可以用於光电发射及二次发射的浸没电子光学系统。具体计算的结果表明分辨距离的理论极限比Recknagel所获得而为大家所公认的结果(δ=4(kT)/(eE),不考虑强度分布的影响)要小一个数量级,其数值舆面源的几何形状有关,也舆像平面的位置有关。本文所得的公式舆结果可以应用於均匀平行的电磁场系统;并且对Wendt的论文提出一些意见。最后,对加速电源设计的要求略加讨论。