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微波电子回旋共振-化学气相沉积SiN_x薄膜的光学性能研究
引用本文:叶超,宁兆元,项苏留,沈明荣,汪浩,甘肇强. 微波电子回旋共振-化学气相沉积SiN_x薄膜的光学性能研究[J]. 光学学报, 1997, 17(4): 489-492
作者姓名:叶超  宁兆元  项苏留  沈明荣  汪浩  甘肇强
作者单位:苏州大学江苏省薄膜材料重点实验室,苏州大学分析测试中心
摘    要:研究了微波电子回旋共振-化学气相沉积SiNx薄膜的光学性能,这种SiNx薄膜具有透光谱宽、透光率高的特点,总结了透光谱、折射率、光隙能随微波功率、基片温度的变化关系

关 键 词:氮化硅薄膜,光学性能,微波电子回旋共振-化学气相沉积
收稿时间:1996-03-23

Optical Properties of SiN x Films Prepared by Microwave ECR CVD
Affiliation:Received 23
Abstract:The optical properties of SiN x films prepared by microwave ECR CVD have been investigated.The wide transmission spectrum and high transmissivity of SiN x films are obtained. The effects of microwave power and substrate temperature on transmission spectra, refractive index, optical band gap are analysed.
Keywords:SiN x film   optical property   microwave electron cyclotron resonance chemical vapor deposition.
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