| 本征微晶硅薄膜和微晶硅电池的制备及其特性研究 |
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| 引用本文： | 张晓丹,高艳涛,赵颖,朱锋,魏长春,孙建,耿新华,熊绍珍. 本征微晶硅薄膜和微晶硅电池的制备及其特性研究[J]. 人工晶体学报, 2005, 34(2): 297-300 |
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| 作者姓名： | 张晓丹 高艳涛 赵颖 朱锋 魏长春 孙建 耿新华 熊绍珍 |
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| 作者单位： | 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展规划(No.G2000028202，No.G2000028203 )，教育部重点项目 (No. 02167 )，国家高技术研究发展计划(No. 2002303261)资助 |
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| 摘 要： | 本文对VHF-PECVD制备的本征微晶硅薄膜和电池进行了电学特性和结构特性方面的测试分析研究.电学测试结果给出制备薄膜的激活能为0.51eV,符合电池对材料的电学参数要求;拉曼散射谱测试结果计算得到样品的晶化率为63;;X射线衍射结果也证明材料晶化,同时(220)方向择优;首次在国内用VHF-PECVD方法制备出效率为5;的微晶硅电池(Jsc=21mA/cm2,Voc=0.46V,FF=51;,Area=0.253cm2).
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| 关 键 词： | 甚高频等离子体增强化学气相沉积 微晶硅 太阳电池 |
| 文章编号： | 1000-985X(2005)02-0297-04 |
Fabrication of Microcrystalline Silicon Materials and Microcrystalline Silicon Solar Cells and Study on Their Properties |
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| ZHANG Xiao-dan,GAO Yan-tao,ZHAO Ying,ZHU Feng,WEI Chang-chun,SUN Jian,GENG Xin-hua,XIONG Shao-zhen. Fabrication of Microcrystalline Silicon Materials and Microcrystalline Silicon Solar Cells and Study on Their Properties[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2005, 34(2): 297-300 |
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| Authors: | ZHANG Xiao-dan GAO Yan-tao ZHAO Ying ZHU Feng WEI Chang-chun SUN Jian GENG Xin-hua XIONG Shao-zhen |
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| Abstract: | The electrical and structural properties of microcrystalline silicon thin film and solar cells fabricated by VHF-PECVD were studied. Photosensitivity and active energy are 1000 and 0.51eV respectively, which are suitable for the application of solar cells.The crystalline volume fraction (Xc ) of thin film obtained from Raman measurement is 63%. The results of XRD measurement also indicate that the thin film is a microcrystalline silicon and has a preferable (220) orientation. Microcrystalline silicon solar cells (Jsc=21mA/cm~2, Voc=0.46V, FF=51%, Area=0.253cm~2) with conversion efficiency 5% was fabricated by VHF-PECVD. The stability of material and solar cell were also studied. |
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| Keywords: | VHF-PECVD microcrystalline silicon solar cells |
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