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| 光谱法测定高纯度二氧化硅中微量杂质 | |
| 引用本文： | 黄昆华.光谱法测定高纯度二氧化硅中微量杂质[J].化学学报,1960(2). |
| 作者姓名： | 黄昆华 |
| 作者单位： | 杭州 浙江化工研究所 |
| 摘 要： | 本文报告高纯度二氧化硅中五种痕量杂质元素的光谱测定.在交流电弧中完全蒸发试样而不采用内标法.采用二条分析线所得到的结果良好.本法可用以测定杂质的含量为10~(-4)～10~(-2)%.单独分析的最大偏差为8%. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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