| 光化学汽相淀积技术在薄膜备制中的应用 |
| |
| 引用本文： | 尹敏,赵鹏.光化学汽相淀积技术在薄膜备制中的应用[J].半导体光电,1998,19(1):16-19. |
| |
| 作者姓名： | 尹敏 赵鹏 |
| |
| 作者单位： | 昆明物理研究所 |
| |
| 摘 要： | 介绍了光化学汽相淀积法的原理以及ＰＶＤ－１０００设备淀积薄膜的规律，特点等，并且给出了所淀积的ＳｉＯ２膜，Ｓｉ３Ｎ４膜和ＺｎＳ膜的基本特性。
|
| 关 键 词： | 半导体材料 CVD 薄膜技术 |
Photochemical vapor deposition and its application in film preparation |
| |
| YIN Min ZHAO Peng.Photochemical vapor deposition and its application in film preparation[J].Semiconductor Optoelectronics,1998,19(1):16-19. |
| |
| Authors: | YIN Min ZHAO Peng |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Semiconductor Materials PVD Technology ZnS Films SiO 2 Films Si 3N 4 Films |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
|
