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磁流变抛光流场瞬变过程响应时间
引用本文:杨航,宋书飘,张帅,甘欢,黄文,何建国.磁流变抛光流场瞬变过程响应时间[J].激光与光电子学进展,2020,57(3):203-209.
作者姓名:杨航  宋书飘  张帅  甘欢  黄文  何建国
作者单位:遵义师范学院工学院,贵州遵义563006;中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳621900;中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室,四川成都610200;中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳621900
基金项目:教育部重点实验室开放基金;高档数控机床与基础制造装备"科技重大专项;贵州省教育厅青年科技人才成长项目;贵州省科技计划
摘    要:

关 键 词:光学设计  强激光系统  超精密光学加工  磁流变抛光(MRF)  瞬变过程  在位测量  响应时间
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
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