磁流变抛光流场瞬变过程响应时间 |
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引用本文: | 杨航,宋书飘,张帅,甘欢,黄文,何建国.磁流变抛光流场瞬变过程响应时间[J].激光与光电子学进展,2020,57(3):203-209. |
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作者姓名: | 杨航 宋书飘 张帅 甘欢 黄文 何建国 |
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作者单位: | 遵义师范学院工学院,贵州遵义563006;中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳621900;中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室,四川成都610200;中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳621900 |
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基金项目: | 教育部重点实验室开放基金;高档数控机床与基础制造装备"科技重大专项;贵州省教育厅青年科技人才成长项目;贵州省科技计划 |
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摘 要: |
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关 键 词: | 光学设计 强激光系统 超精密光学加工 磁流变抛光(MRF) 瞬变过程 在位测量 响应时间 |
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