| 阴极电沉积法制备高氮含量氮化碳薄膜 |
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| 引用本文： | 李超,曹传宝,朱鹤孙,吕强,黄福林.阴极电沉积法制备高氮含量氮化碳薄膜[J].应用化学,2004,21(1):36-0. |
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| 作者姓名： | 李超 曹传宝 朱鹤孙 吕强 黄福林 |
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| 作者单位： | 北京理工大学，郑州轻工学院 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 (2 0 1710 0 7)，博士点基金 (19990 0 0 718)资助项目 |
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| 摘 要： | 阴极电沉积法制备高氮含量氮化碳薄膜;电化学沉积;硬度;模量
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| 关 键 词： | 阴极电沉积法制备高氮含量氮化碳薄膜 电化学沉积 硬度 模量 |
| 文章编号： | 1000-0518(2004)01-0036-05 |
| 收稿时间： | 2009-06-29 |
| 修稿时间： | 2003年3月12日 |
Preparation of Carbon Nitride Thin Films with High Nitrogen Content by Cathodic Electrodeposition |
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