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在发射式电子光学系统中光电子速度分布对像质量的影响(Ⅰ)
引用本文:吴全德.在发射式电子光学系统中光电子速度分布对像质量的影响(Ⅰ)[J].物理学报,1956(5).
作者姓名:吴全德
作者单位:北京大学
摘    要:本文讨论了对应于不同的光电阴极的点源在各种像平面上所产生的强度分布,这些像平面都在高斯像平面附近;也讨论了分辨距离,并找出具有最好分辨本领的像平面位置。焦散面的情况也曾讨论到。 本文指出,由于考虑了能量分布与角度分布,所有这些情况的最小分辨距离都比目前公认的数值小。例如在初能量按抛物线分布的情况下,δ_(0.5)=0.18ε_(max)/E。所有这些讨论都是基于公式,因此所有结果可以用在任何发射式系统,甚至有磁场存在,假如在阴极面上磁场强度为零或很弱。 在这篇论文中曾对Septier于去年发表的关于柱形透镜的分辨本领的论文进行评论。

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