| 化学镀非晶态镍磷和镍钨磷双层组合镀层工艺研究 |
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| 引用本文： | 朱一民,李纪宁.化学镀非晶态镍磷和镍钨磷双层组合镀层工艺研究[J].化学研究与应用,1998,10(5):553-557. |
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| 作者姓名： | 朱一民 李纪宁 |
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| 作者单位： | 沈阳化工学院精细化工系 |
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| 摘 要： | 本文着重研究非晶态Ｎｉ－Ｐ和Ｎｉ－Ｗ－Ｐ双层组合镀层的化学镀工艺条件：如镀液组分及ＰＨ值等对镀层在分，镀层沉积速率的影响。实验结果表明；在苹果酸体系中化学镀镍磷镀层比较合适的艺条件为；硫酸镍０．１ｍｏｌ／Ｌ，次磷酸钠０．２５ｍｏｌ／Ｌ、苹果酸０．２０ｍｏｌ／Ｌ，琥珀酸０．１５ｍｏｌ／ｌ，ｐＨ＝４．５－５．０温度为９０℃。
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| 关 键 词： | 化学镀 双层组合镀层 镍磷合金 镍钨磷合金 |
RESEARCH ON THE TECHNIQUES OF ELECTROLYTIC PLATING Ni P AND Ni W P AMORPHOUS COMBINED FILMS |
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| Zhu,Yimin,Li,Jining,Wang,Yinu,Wang,Jingyan.RESEARCH ON THE TECHNIQUES OF ELECTROLYTIC PLATING Ni P AND Ni W P AMORPHOUS COMBINED FILMS[J].Chemical Research and Application,1998,10(5):553-557. |
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| Authors: | Zhu Yimin Li Jining Wang Yinu Wang Jingyan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | electrolytic plating composite film Ni P and Ni W P film composition film deposition rate |
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