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| 溅射方法干式处理超导加速腔表面的研究与分析 | |
| 作者姓名： | 朱凤 焦飞 全胜文 郝建奎 赵夔 |
| 作者单位： | 北京大学核物理与核技术国家重点实验室,重离子物理研究所,北京 100871 |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(批准号：2002CB713600)资助的课题. |
| 摘 要： | 详细研究了利用超高真空氩离子清洗技术发展的一种超导铌腔表面的“干式”处理方法,从微观和宏观角度分析了溅射处理对铌的表面特性和对超导腔性能的影响.与传统的“湿式”处理方法(化学抛光BCP和电抛光EP)相比,干式处理方法具有结构简单、容易控制、没有污染等优点,是一种很有潜力的超导腔处理方法,可以提高超导腔的性能.
关键词：
超导加速腔
溅射
形貌分析
残留电阻比RRR |
| 关 键 词： | 超导加速腔 溅射 形貌分析 残留电阻比RRR |
| 收稿时间： | 2008-04-09 |
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